鈍化,金屬由于介質的作用生成的腐蝕產物如果具有致密的結構,形成了一層薄膜(往往是看不見的),緊密覆蓋在金屬的表面,則改變了金屬的表面狀態,使金屬的電極電位大大向正方向躍變,而成為耐蝕的鈍態。如Fe→Fe時標準電位為-0.44V,鈍化后躍變到+0.5~1V,而顯示出耐腐蝕的貴金屬性能,這層薄膜就叫鈍化膜。
金屬的鈍化也可能是自發過程(如在金屬的表面生成一層難溶解的化合物,即氧化物膜)。在工業上是用鈍化劑(主要是氧化劑)對金屬進行鈍化處理,形成一層保護膜。
其鈍化的機理可用薄膜理論來解釋,即認為鈍化是由于金屬與氧化性物質作用,作用時在金屬表面生成 一種非常薄的、致密的、覆蓋性能良好的、牢固地吸附在金屬表面上的鈍化膜。這層膜成獨立相存在,通常是氧化金屬的化合物。它起著把金屬與腐蝕介質完全隔開的作用,防止金屬與腐蝕介質接觸,從而使金屬基本停止溶解形成鈍態達到防腐蝕的作用。
1)與傳統的物理封閉法相比,鈍化處理后具有絕.對不增加工件厚度和改變顏色的特點、提高了產品的精.密度和附加值,使操作更方便;
2)由于鈍化的過程屬于無反應狀態進行,鈍化劑可反復添加使用,因此壽命更長、成本更經濟。
3)鈍化促使金屬表面形成的氧分子結構鈍化膜、膜層致密、性能穩定,并且在空氣中同時具有自行修復作用,因此與傳統的涂防銹油的方法相比,鈍化形成的鈍化膜更穩定、更具耐蝕性。
在氧化層中大部分的電荷效應是直接或間接地同熱氧化的工藝過程有關的。在800-1250℃的溫度范圍內,用干氧、濕氧或水汽進行的熱氧化過程有三個持續的階段,首先是環境氣氛中的氧進入到已生成的氧化層中,然后氧通過二氧化硅向內部擴散,當它到達Si02-Si界面時就同硅發生反應,形成新的二氧化硅。這樣不斷發生著氧的進入-擴散-反應過程,使靠近界面的硅不斷轉化為二氧化硅,氧化層就以一定的速率向硅片內部生長。
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